کد خبر: ۷۲۴۶۸۲۶
تاریخ انتشار: ۲۶ بهمن ۱۳۹۸ - ۰۹:۳۵
۲۶ بهمن ۱۳۹۸ - ۰۹:۳۵
کد خبر : ۷۲۴۶۸۲۶

یک شرکت‌ ارائه‌دهنده تجهیزات نانوپوشش‌دهی، دستگاهی ساخته است که انتشار گاز‌های خطرناک و آلاینده به محیط‌‌ زیست را کاهش می‌دهد.

کاهش انتشار گاز‌های خطرناک با فناوری نانومتری

به گزارش خبرنگار حوزه فناوری گروه علمی پزشكی باشگاه خبرنگاران جوان، افزایش آزاد شدن گاز‌های گلخانه‌ای مانند دی اکسید کربن (CO۲)، متان (CH۴)، نیترو اکسید (N۲O) از خاک‌ها به اتمسفر یکی از نگرانی‌های جهان در چند دهه گذشته است. دی اکسید کربن به عنوان یک عامل مهم مؤثر در گرمایش جهانی و تغییر آب وهوا که مسئول ۶۰ درصد گرم شدن در جهان ، شناخته شده است.

مطالعات نشان می‌دهد پس از انقلاب صنعتی، به دلیل انتشار بیش از حد گاز‌های گلخانه‌ای و مصرف سوخت‌های فسیلی، ذرات معلق در هوا و میزان آلودگی بیشتر شده است. خانوار‌های شهری از مهم‌ترین منابع مصرف انرژی و انتشار گاز‌های گلخانه‌ای ناشی از آن هستند.


بیشتر بخوانید: استفاده از جاذب نانو برای تصفیه آلودگی نفتی از محیط


افزون بر تأثیر مستقیم مصرف انرژی خانوار بر انتشار گاز گلخانه ای، مصرف سایر کالا‌ها و خدمات خانوار نیز، به واسطه ارتباط بین بخش اقتصاد، به صورت غیرمستقیم بر انتشار گاز گلخانه‌ای تأثیرمی‌گذارد. امروزه پرداختن به مسأله گاز‌های گلخانه‌ای از طرف مجامع بین المللی به علت نقش کلیدی آن‌ها در تغییر اقلیم به خصوص فرآیند گرمایش جهانی بسیار مهم تلقی می‌شود.

یکی از شرکت‌های ارائه‌دهنده تجهیزات نانوپوشش‌دهی، دستگاهی برای ایجاد پوشش‌هایی با ضخامت نانومتری ارائه کرده که می‌تواند جایگزین روش‌های لایه‌نشانی رایج نظیر CVD باشد. با این فناوری انتشار گاز‌های خطرناک و آلاینده به محیط‌زیست کاهش می‌یابد.

فناوری لایه‌نشانی اتمی (ALD) گازهای خطرناک را حذف می کند

این شرکت فناوری لایه‌نشانی اتمی (ALD) برای ایجاد پوشش‌های بسیار نازک دارد که با استفاده از این فناوری می‌توان گاز‌های خطرناک، هگزافلورید سولفور و تری‌فلورید نیتروژن را از فرآیند حذف کرد.

فناوری ALD انتشار گاز‌های خطرناک و آلاینده به محیط‌زیست را کاهش می‌دهد

در روش‌های فعلی برای پو‌شش‌دهی CVD، برای به‌دست آوردن سطح مطلوب از عملکرد، فیلم‌های نسبتا ضخیم نیاز به رشد دارند تا به مشخصات موردنیاز برسند؛ برای مثال، بتوانند به‌صورت سدی در برابر رطوبت قرار گیرند، از سطح در مقابل خوردگی محافظت کنند. با توجه به ساخت سریع فیلم روی دیواره تجهیزات، محفظه رسوب باید در فواصل منظم، تمیز شود. این کار با استفاده از پلاسمای تری‌فلورید نیتروژن یا هگزا فلوراید سولفور انجام می‌شود.

SF ۶ قوی‌ترین گاز گلخانه‌ای شناخته شده است که بیش از ۲۲۶۰۰ برابر دی‌اکسیدکربن پتانسیل گرمایش دارد و حداقل هزار سال در جو می‌ماند. میزان انتشار گاز‌های گلخانه‌ای SF ۶ در اتحادیه اروپا تنها در سال ۲۰۱۷ برابر ۱٫۴ میلیون خودرو است. از این رو استفاده از این گاز‌ها باید کاهش یابد.

مقابله با تغییرات آب‌وهوایی با فناوری لایه‌نشانی ALD

با استفاده از فناوری نانولمینی ALD این شرکت می‌توان پوشش‌های مقاوم در برابر عوامل محیطی ایجاد کرد. از سوی دیگر در این روش نیاز به تمیزکاری حذف می‌شود و در نتیجه الزامی به استفاده از پلاسما نیست. محفظه دستگاه فقط هر سه تا شش‌ماه یک‌بار نیاز به تمیز کردن دارد و به جای پلاسمای مبتنی بر فلوئور می‌توان از روش مکانیکی استفاده کرد.

قائم مقام این گروه می‌گوید: ما می‌خواهیم از فناوری ALD برای آینده‌ای پایدار استفاده کنیم. مقابله با تغییرات آب‌وهوایی با هر وسیله ممکن، مستلزم همکاری میان صنایع نوآور و ارائه‌دهندگان راه‌حل‌های صنعتی است. به جای استفاده از پوشش‌های ضخیم می‌توان از پوشش‌های بسیار نازک استفاده کرد که با استفاده از ALD ایجاد شده‌اند. با این کار میزان انتشار گاز‌های خطرناک برای تمیز کردن کاهش یافته و یک روش زیست‌سازگار برای تولید پوشش در دسترس خواهد بود.

انتهای پیام/

 

پیام رسان های باشگاه خبرنگاران - پایین شرح خبر
پیام رسان های باشگاه خبرنگاران - پایین شرح خبر
پیام رسان های باشگاه خبرنگاران - پایین شرح خبر
پیام رسان های باشگاه خبرنگاران - پایین شرح خبر
ارسال نظر
نام:
ایمیل:
* نظر:
پیام رسان های باشگاه خبرنگاران - پایین شرح خبر
اپلیکیشن باشگاه خبرنگاران- صفحه خبر